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膜加工・エッチング

膜加工・エッチング

反応性イオンエッチング装置

装置名

反応性イオンエッチング装置

型番名

RIE-10NR

メーカー名

サムコ

使用目的

Si、SiO2薄膜をフロロカーボンの反応性イオンにより高精度にエッチングできる。 

参考データへのリンク

装置の詳細ページ

装置仕様

試料サイズ

8インチウエハ対応

高周波出力

300W

ガス

CF4, CHF3, O2