スパッタリング装置
| 装置名 | スパッタリング装置 |
| 型番名 | CFS-4EP-LL (i-miller) |
| メーカー名 | 芝浦メカトロニクス |
| 仕様 | スパッタ方式: DC/RFマグネトロンスパッタ, 逆スパッタ 電源出力: 最大500 W スパッタ源: 3インチ×4（強磁性体材料用GUN1基含む） 最大試料: φ220 mm 加熱温度: 室温～300 ℃ 到達真空度・時間: 10-5 Pa, 10分以内に7 x 10-3 Pa 排気系: ロータリーポンプ, ターボ分子ポンプ, クライオトラップ 操作方式: 全自動（レシピ設定可） プロセスガス: Ar, N2, O2 |
| ターゲット | Al, Ag, Au, Cu, Cr, Pt, SiO2, Ti, Ni |
| 設置場所 | 共同研究棟C309 |