パターン投影リソグラフィーシステム
| 装置名 | パターン投影リソグラフィーシステム |
| 型番名 | μPG501 |
| メーカー名 | Heidelberg instruments |
| 仕様 | 光源: LED（波長390nm） 最大基板サイズ: 5インチ 対応フォーマット: DXF, GDSⅡ, Gerber, CIFなど 描画エリア: 125×125mm2 最小描画サイズ: 1.0μm 最小アドレッシンググリッド: 50nm@1μm 描画スピード: 50mm2/min@1μm,100mm2/min@2μm |
| 設置場所 | 共同研究棟C107 |