| スパッタ方式 | マグネトロン・サイドスパッタ RF500W (DC)
|
|---|
| スパッタ源 | ３インチ×４（強磁性体材料用GUN1基含む）、逆スパッタ可
|
|---|
| サンプルホルダ | 最大φ220 mm／最小20 mm
（４インチウエハ用および不定形用ホルダあり）
|
|---|
| 加熱温度 | 室温～300℃
|
|---|
| 到達真空度・時間 | 10-5 Pa、10分以内に7 x 10-3 Pa
|
|---|
| 排気系 | ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオトラップ
|
|---|
| 操作方式 | 全自動（レシピ設定可）
|
|---|
| プロセスガス | Ar、N2、O2
|
|---|
| 成膜レート | 18 nm/min (Au), 10 nm/min (Pt)
|
|---|
