装置の設置場所
共同研究棟C 107室
| 装置分野 | 装置名 |
|---|---|
| 加工・観察 | FIB-SEM (FEI,Helios NanoLab? 600i) |
| 観察 | FE-SEM (日立ハイテク,SU-8020) |
| 露光 | 電子線描画装置 (ELIONIX,ELS-7500EX) |
| 露光 | マスクアライナー (Neutronix-Quintel, Q 2001CT) |
| 露光 | パターン投影リソグラフィーシステム(Heidelberg Instruments, µPG501) |
| 成膜 | インクジェットパターン生成装置(SIJテクノロジ, ST050) |
| シミュレータ | プロセス/デバイスシミュレーター (SILVACO,ATHENA/ATLAS) |
| その他 | プラズマリアクター (ヤマト科学, PR500) / スピンコーター（ミカサ株式会社, MS-A100） |
※太字：微細加工プラットフォーム供出装置
共同研究棟C 104室
| 装置分野 | 装置名 |
|---|---|
| 観察・分析 | AFM (Bruker, Multimode8) (Bruker,Dimension Icon) |
| 分析 | SNOM （日本分光,特注） |
| 分析 | レーザラマン分光光度計 （日本分光, NRS-5100） |
※太字：微細加工プラットフォーム供出装置
共同研究棟C 301室
| 装置分野 | 装置名 |
|---|---|
| 分析 | 半導体特性評価システム(Agilent, B1599T) |
| 分析 | 触針式表面形状測定器(アルバック, Dektak) |
※太字：微細加工プラットフォーム供出装置
共同研究棟C 309室
| 装置分野 | 装置名 |
|---|---|
| 成膜 | スパッタリング装置 (芝浦メカトロニクス, CFS-4FP-LL) |
| 成膜 | 多元電子ビーム蒸着装置（株式会社エイコー, EB-350T） |
| 加工 | 反応性イオンエッチング装置（サムコ株式会社, RIE-10NR） |
| 切削 | ウェーハダイシングマシン（株式会社ディスコ, DAD322) |
※太字：微細加工プラットフォーム供出装置